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中国半导体薄膜沉积设备产业政策、竞争格局及重点企业经营情况

时间:2022-08-20 23:09:29 作者:KOK体育官方下载 来源:KOK全站APP下载
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  原文标题:2021年全球及中国半导体薄膜沉积设备行业市场现状分析,国产替代高景气「图」

  薄膜生长:采用物理或化学方法使物质附着于衬底材料表面的过程,常见生长物质包括金属、氧化物、氮化物等不同薄膜。根据工作原理不同,薄膜沉积生长设备可分为:物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和外延三大类。在半导体领域,薄膜主要分给绝缘薄膜、金属薄膜。大部分绝缘薄膜使用CVD,金属薄膜常用PVD(主要是溅射)。薄膜设备中,CVD使用越来越广泛。

  为推动半导体产业发展,增强产业创新能力和国际竞争力,我国近年来推出了一系列鼓励和支持半导体产业发展的政策,为半导体产业的发展营造了良好的政策环境。主要的行业政策法规如下:

  全球市场格局方面,以应用材料、泛林半导体、东京电子等国际巨头形成的垄断格局已经较为明显。2020年以上三家在全球沉积设备的市场份额分别达到43%、19%和11%。

  2020年全球管式CVD设备市场空间14亿美元,在各类薄膜设备中占比约10%,已逐渐被应用更广的等离子体和原子层沉积技术超过。日本半导体设备厂商东京电子和同业国际电气(已被应用材料收购)在全球管式CVD设备市场中分别占据46%和51%的份额。

  相比于APCVD,LPCVD具有更低的成本、更高的产量和更好的膜性能。2020年全球非管式LPCVD设备市场空间达10亿美元,泛林半导体、东京电子和应用材料分别占据40%、36%和19%的市场份额。

  等离子体辅助CVD,主要包括PECVD和HDPCVD,工作原理是在真空腔中施加射频功率使气体分子分解为等离子体。2020年全球等离子体CVD设备市场空间达47亿美元,远超其他类别的沉积设备。应用材料、泛林半导体的此类设备市占率分别为49%和34%,设备种类更全,在薄膜材料和淀积指标上处在领先地位。

  原子层沉积(ALD)最大优点是薄膜厚度均匀性,在高深宽比(>

  100:1)空隙和3D结构的顶部、侧面和底部可以获得相同的膜厚度,缺点是沉积速度慢,约1A/min。2020年全球ALD设备市场空间近18亿美元,在沉积设备市场的份额达到13%,仅次于等离子体CVD和PVD。应用材料、泛林半导体、东京电子等设备巨头均有布局。ASMI的占有率最高,达到46%。

  2020年溅射PVD设备的市场空间达到近30亿美元,占比21%,应用仅次于等离子体CVD。应用材料在PVD设备市场具备绝对优势,市场占有率达到85%以上。

  目前国内布局沉积设备的厂商主要有沈阳拓荆、北方华创、中微公司与盛美上海,其中沈阳拓荆布局PECVD、SACVD以及ALD,产品已广泛应用于国内14nm以上晶圆制造产线;北方华创布局PVD、APCVD、APCVD以及用于功率等的PECVD、ALD,其中PVD设备独领风骚;中微公司2022年新的针对Mini LED市场的MOCVD将实现0-1放量,WLPCVD研发也取得突出进展;盛美上海前道大马士革ECD设备已实现批量订单;SiN LPCVD客户端进行量产认证,未来有望放量赋能。

  拓荆科技股份有限公司(简称“拓荆科技”)主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务,主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列。拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备、SACVD设备厂商,也是国内领先的集成电路ALD设备厂商。

  拓荆科技的每台薄膜沉积设备由1个平台(TM)和多个反应腔(PM)组成,PM的数量通常为1-3个。拓荆科技PECVD设备的销量从2018年4台增加到2021年前三季度的23台;ALD设备在2018年实现了1台销量;SACVD设备在2020年、2021年前三季度分别实现了1台销量。

  拓荆科技销售PECVD设备为一台设备(包含1-3个腔),或者单独销售腔体,将单独销售腔的数量全部折算进设备进行处理分析,计算得到平均每台PECVD设备2018年、2019年、2020年、2021年1-9月平均每台设备配置3腔、2.74腔、2.68腔、2.70腔。

  拓荆科技PECVD设备的两大主力机型为PF-300T、PF-200T,其中PF-300T的销售平均单价(万元/PM+TM)由2018年的349.11万元增加到2020年的373.46万元,主要是因为PF-300T设备中包括了ADCII、LOkII、ADHM等新工艺,使得总体均价提升;PF-200T的销售平均单价(万元/PM+TM)由2018年的245.25万元增加到2020年的346.67万元,主要是因为PF-200T设备中包括了ACHM等新工艺,使得总体均价提升。

  原文标题:2021年全球及中国半导体薄膜沉积设备行业市场现状分析,国产替代高景气「图」

  华经产业研究院对中国半导体薄膜沉积设备行业发展现状、行业上下游产业链、竞争格局及重点企业等进行了深入剖析,最大限度地降低企业投资风险与经营成本,提高企业竞争力;并运用多种数据分析技术,对行业发展趋势进行预测,以便企业能及时抢占市场先机;更多详细内容,请关注华经产业研究院出版的《2022-2027年中国半导体薄膜沉积设备行业发展前景预测及投资战略研究报告》。

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